決算説明：ジェイ・イー・ティ（6228）

2025年12月期第３四半期決算説明資料

エグゼクティブサマリー

• 経営陣のメッセージ: 中国市場の国産化進展や世界的な需要停滞の影響で今期は厳しい決算（赤字）となったが、現地出資・現地化（STEP1）や新機種（BW3500）を中心に来期以降の黒字化に向け対策を強化。
• 業績ハイライト: 売上高11,021百万円（前期比 △22.9%）、営業利益△1,704百万円（前年同期755百万円、△約325.6%）、当期純利益△2,541百万円（前年同期403百万円、△約730.0%）。営業利益率は約△15.5%（売上11,021百万円に対して）。
• 戦略の方向性: 中国での現地化（連結子会社Oribright Shanghaiを通じた新必思半導体科技への24%出資＝持分法適用関連会社化）をSTEP1とし、価格競争力・納期・現地サービスで差別化。主力機種BW3500を今後の投資中心に。
• 注目材料: ①受注品の納入時期不明に伴う製品棚卸評価損（13億40百万円＝1,340百万円計上）及び部品在庫の棚卸評価損（2億円＝200百万円）、②繰延税金資産の取り崩しに伴う法人税等調整額（7億60百万円＝760百万円）計上により業績を圧迫。通期見通し（売上13,420百万円、営業利益△1,810百万円）は資料上提示（進捗率：売上82.1%）。
• 一言評価: 中国市場の構造変化と在庫評価の一時コストで今期は大幅減益/赤字。ただし現地化と新機種を軸に構造対応を進めるフェーズ。

基本情報

• 企業概要: 会社名 株式会社ジェイ・イー・ティ（英名 J.E.T. Co., LTD.）。主要事業：半導体洗浄装置の開発・製造・販売・アフターサービス（主力製品 BW3000/BW3500 等）。代表者：代表取締役 CEO 房野 正幸。
• 説明会情報: 開催日時 2025年11月7日（決算短信・説明資料公開日）。説明会形式：資料に明記なし（–）。参加対象：資料は投資家向け公開資料（個別参加対象等の記載なし）。
• 説明者: 発表者として代表取締役 CEO 房野正幸（スライド内で代表者名とコメントが記載）。その他発表者の明記なし（–）。
• セグメント: セグメント表記は「半導体事業（洗浄装置の開発・製造・販売・アフターサービス）」が中心。地理別売上構成（地域別）はスライドにて提示（中国/韓国/台湾/日本/米国/その他）。

業績サマリー

• 主要指標（単位：百万円、前年同期比は%表示）
• 売上高: 11,021 百万円、前期比 △22.9%
• 売上総利益: 313 百万円、売上比 2.8%、対前期比 △89.5%
• 販管費: 2,017 百万円、売上比 18.3%、対前期比 △9.2%
• 営業利益: △1,704 百万円、前年同期実績 755 百万円、対前期比 △325.6%（営業利益率 約 △15.5%）
• 経常利益: △1,781 百万円、前年同期実績 688 百万円、対前期比 △359.0%
• 当期純利益: △2,541 百万円、前年同期実績 403 百万円、対前期比 △730.0%
• 予想との比較
• 会社予想に対する達成率（通期ベース資料提示による進捗）:
• 売上高進捗率: 82.1%（11,021 / 13,420）
• 営業利益（比較が負数のため解釈注意）: -1,704 / -1,810 → 約94.1%（ただしマイナス比の解釈に注意）
• 当期純利益進捗: 約92.4%（-2,541 / -2,750）
• サプライズの有無: 在庫評価損（製品で1,340百万円、部品で200百万円）、繰延税金資産取り崩しに伴う法人税等調整（760百万円）などの特別損失計上が業績に大きく影響。これらは決算説明で明示された想定外あるいは一時要因として投資家注目点。
• 進捗状況
• 通期予想に対する売上進捗：82.1%（スライド記載）
• 中期経営計画や年度目標に対する達成率：資料内で中期KPIの進捗表記なし（–）。
• 過去同時期との進捗比較：前年同期比 売上 △22.9% と大幅減収。
• セグメント別状況（地域別中心）
• 地域別売上構成比（単位 %、四捨五入）：2024年12月期→2025年12月期3Q
• 中国: 60.2% → 42.4%（大幅低下）
• 韓国: 34.0% → 43.5%（上昇）
• 台湾: 3.1% → 6.2%
• 日本: 1.8% → 1.9%
• 米国: 0.9% → 1.5%
• その他: — → 4.5%
• コメント: 日本向け洗浄装置の売上は来期へ繰延。中国向けは国産化の流れで構成・利益率の低い装置計上が混在。

業績の背景分析

• 業績概要: 売上減少は中国ファウンドリ/メモリーメーカーの投資延期や上期に想定した案件が受注に至らなかったこと、さらに中国で受注したが利益率低い装置の計上、受注製品の納入時期不明による棚卸評価損、繰延税金資産の取り崩しが重なり赤字化。
• 増減要因:
• 増収要因: –（資料上の増収要因はなし）
• 減収の主要因: 中国向け投資計画の延期、上期想定案件不成立、日本向け売上の来期繰延。
• 減益の主要因: 利益率の低い装置計上、棚卸評価損（製品 1,340百万円、部品 200百万円）、繰延税金資産の取り崩しによる法人税等調整（760百万円）。
• 競争環境:
• 業界ではA社・B社等の大手が量産力・標準化で強く、当社は高温高粘度処理やカスタマイズ性でニッチ領域に強み。
• 市場シェア（当社認識）: バッチ式市場（1,525億円）における当社シェア 14.3%、枚葉式市場（6,362億円）では0.1%。
• 差別化要素: F-Type 搬送方式の独自性、BW3500 等の製品優位性、カスタマイズ対応力。
• リスク要因:
• 中国の国産化・政策シフトによる既納入装置の置換、米国の関税政策や米中摩擦、世界需要の停滞、サプライチェーンや為替変動。
• 在庫評価や繰延税金資産が業績に与える影響（決算で実損計上）。

戦略と施策

• 現在の戦略: 中国国内市場での現地化（国産化の流れに対応）、価格競争力・納期・現地サービスでの差別化、BW3500 を中心とした製品改良・ラインナップ強化。
• 進行中の施策:
• 新必思半導体科技（南通）への24.0%出資（持分法適用関連会社化）をSTEP1とした現地化推進。
• BW3500の開発・投入（28nm以上のプロセスを想定、フットプリント削減・搬送方式改良・環境安全対策等）。
• 販管費抑制の継続。
• セグメント別施策: 半導体事業（洗浄装置）で現地メーカー向け代替提案、価格・納期・サービスで差別化。中国ターゲット顧客にSMIC等を想定。
• 新たな取り組み: 出資を起点とした更なる現地化方策検討（資料ではSTEP1表明）。

将来予測と見通し

• 業績予想（通期：2025年12月期、資料提示）
• 売上高: 13,420 百万円（前期比 △24.9%）
• 営業利益: △1,810 百万円
• 経常利益: △1,910 百万円
• 当期純利益: △2,750 百万円
• 予想の前提条件: 中国市場での受注想定が延期・未成立となった影響を織り込む一方、AIやデータ関連での先端半導体需要拡大期待はあるがマクロ不確実性が高い（為替・関税・中国景気等は不透明）。
• 予想の根拠と経営陣の自信度: 資料では来期以降の黒字確保に向け対策を強化中と表明。経営陣のトーンは慎重〜着実に対応する姿勢。
• 予想修正:
• 資料に示された通期予想は提示されているが、前回公表予想からの増減比較は資料内に明記なし（修正有無は資料では不明）。通期見通しは現時点で提示の数値。
• 中長期計画とKPI進捗: 中期KPIの数値目標や進捗表は資料上記載なし（–）。
• 予想の信頼性: 今回は在庫評価損や税務の一時調整が業績を大きく動かしており、短期的な変動要因が大きい。過去の予想達成傾向に関する記載は資料になし（–）。
• マクロ経済の影響: 米国関税、米中摩擦、中国不動産不況等が継続的リスク。生成AIによる先端投資の拡大期待は上方要因。

配当と株主還元

• 配当方針: 資料に明記なし（–）。
• 配当実績: 中間配当・期末配当・配当性向の記載なし（–）。
• 特別配当: なし（資料上言及なし）。
• その他株主還元: 自社株買いや株式分割等に関する記載なし（–）。

製品やサービス

• 主要製品:
• BW3000 / BW3700（バッチ式、300mm対応、価格帯 210～400 / 320～560 百万円）
• BW2000（200mmバッチ式、150～210 百万円）
• HTS-300（枚葉式、300mm対応、高温処理、330～540 百万円）
• BW3500（後継主力機種、フットプリント削減・搬送方式改良・環境対策等、今後の投資中心）
• サービス: アフターサービス、現地フィールドサービス（国内拠点・中国拠点で展開）。
• 協業・提携: 中国での出資（新必思半導体科技）により現地商流を構築。親会社ZEUSとの関係は事業棲み分け・独立性確保を明記。
• 成長ドライバー: BW3500の拡販（28nm以上プロセス向け）、中国での現地化による継続売上確保、AI/先端投資の追い風。

経営陣のトーン分析

• 自信度: 全体的に慎重〜中立。赤字を認めつつ現地化や製品投入で対策を講じる方針を強調。
• 表現の変化: 前回説明会との比較は資料に記載なし（–）。今回の表現は問題点を明確化して対策へフォーカスする姿勢。
• 重視している話題: 中国市場対応（国産化への対策・現地出資）と製品（BW3500）による収益基盤強化。
• 回避している話題: 将来の業績細目（EPS、配当見通し、詳細な中期KPI）は言及を避けている印象。

投資判断のポイント（助言は行わず材料整理）

• ポジティブ要因:
• BW3500 等の製品競争力（F-Type等独自技術、バッチ式での強み）。
• 中国での現地化（持分出資）で商流確保を図る方針。
• 高温・高粘度等のニッチ領域での技術優位性とカスタマイズ力。
• ネガティブ要因:
• 中国の国産化政策による既納入装置の置換や価格競争。
• 今期に計上した棚卸評価損・税資産取り崩し等の一時費用。
• マクロ（米中摩擦、関税、半導体投資の地域偏在）リスク。
• 不確実性:
• China向け受注回復時期、BW3500の市場浸透速度、今後の在庫評価リスク。
• 注目すべきカタリスト:
• 新必思半導体科技を通じた受注増・収益改善の進捗発表
• BW3500 の受注・量産化・納入実績
• 中国および世界の主要顧客（SMIC 等）の投資計画動向
• 次回決算での棚卸評価戻しや追加評価損の有無

重要な注記

• 会計・特記事項: 受注だが納入時期が明確でない製品に対する棚卸評価損（製品1,340百万円、部品200百万円）および繰延税金資産の取り崩しに伴う法人税等調整（760百万円）を計上。
• リスク要因: 資料冒頭・末尾に開示された通常のディスクレーマー（将来予測は現時点の情報に基づく、経済動向等で変動あり）。
• その他: 資料の数値は単位未満切り捨て、比率は四捨五入で処理。

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